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Challenge of innovation 新しいことへの挑戦
この会社の部署一覧
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仕事内容
半導体、ディスプレイ製造用イオン注入装置などの電気・制御設計業務 ・顧客並びに関連部署との新規/改良仕様の打合せ ・仕様に基づく設計(電気電子回路,制御システム,装置制御ソフトなど) ・PLC制御設計(プログラム作成、動作確認など) ・装置仕様の電気/制御に関わる改良検討及び実現
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Challenge of innovation 新しいことへの挑戦
半導体やフラットパネルディスプレイの製造に欠かせない「イオンビーム技術」を提供する装置・技術・サービスのトータルサプライヤー！
企業概要
日新イオン機器株式会社は、半導体製造装置・フラットパネルディスプレイ製造装置の開発・設計・製造・販売・保守サービスなどを主な事業とする、イオン注入装置の専業メーカーです。
イオン注入とは、注入したい物質(一般にホウ素(B:ボロン)、リン(P)、ヒ素(As)などの元素)をプラズマ化・イオン化させ、これに高電圧を印加して加速し、その運動エネルギーでシリコン(Si)ウェハや、化合物半導体といわれるガリウムヒ素(GaAs)、シリコンカーバイド(SiC)、あるいはガラス基板上のポリシリコン薄膜等の基板上に注入することにより、半導体デバイスの電気的特性(電気の伝導性・導電性)を制御し造り上げる技術で、これによりシリコンウェハ上に半導体素子がつくられます。
当社が製造・販売するイオン注入装置は、半導体やFPD(フラットパネルディスプレイ)の製造に必要不可欠な装置です。半導体製造用のイオン注入装置は、IC(集積回路)などの半導体製品を作る過程で、素材であるシリコンウェハ等の基板にリンやボロンなどの不純物を添加(注入)する装置で、コンピューターのCPUやメモリー、システムLSIをはじめ、電化製品などに搭載されるマイコンやインバーター、車載用半導体、デジタルカメラ用のイメージセンサーなど多種多様な半導体製品の製造に不可欠な装置として、世界中で活躍しています。またFPD製造用のイオン注入装置は、液晶ディスプレイ(LCD)の薄膜トランジスタ(TFT)を形成させるために、大型ガラス基板の上にリンやボロンなどのイオンを均一・高密度に注入する装置で、スマートフォン、デジタルカメラなどの液晶パネルや有機ELパネルの製造に用いられています。なかでも高画質・高精細・高機能を実現する低温ポリシリコン(LTPS)TFT・ディスプレイ製造用のイオン注入装置は1988年に世界に先駆けて開発。以来多くの納入台数を重ね、高精細なディスプレイ製造用イオン注入装置で世界トップシェアを誇り、国内外で高い評価を獲得しています。
滋賀県甲賀市にある滋賀事業所では、イオン注入装置の設計開発をはじめ、装置の立上げ・調整・検査などを行っています。当社が手がけるイオン注入の装置技術は、実に多岐にわたる技術分野が関連しています。例えば、真空技術・電子回路技術・プラズマ化学・材料工学・高電圧絶縁技術・メカトロニクス・情報通信・IT等々の知見を有する技術者集団が、新しい応用分野での事業化を目指して、装置・プロセス技術の開発に取り組んでいます。
各部署の仕事内容
イオンビーム機器事業部 生産統括部（立上げ・調整・検査）
・装置の品質に問題がないか、顧客仕様を満たした性能確認、装置を引き渡し。
イオンビーム機器事業部 生産統括部（装置組立・配線・立上げ）
■国内及び海外顧客工場への装置搬入・現地組立、立上げ業務
イオンビーム機器事業部 生産サポートグループ
・関連部門 及び顧客と調整しながら、装置の組立，調整，検査など
・顧客仕様に基づき、性能や品質の確認
・国内 及び海外の顧客工場の装置搬入後、立上げ調整など現地での作業
働く環境
特徴や周辺環境
多種多様な半導体製品の製造を支えています！
半導体製造装置分野では、日新イオン機器は日本を代表するイオン注入装置の専業メーカーとして、中電流イオン注入装置を中心に各種イオン注入装置を提供しています。
各種イオン注入装置の中でも中電流イオン注入装置は汎用性が高く、半導体デバイスの製造プロセスで最も多く使われており、日新電機での創業時以来40年以上の歴史の中で、これまでに多くの台数を世界のお客様へ納入してまいりました。
中小型高品位ディスプレイ製造に寄与！
日新イオン機器のFPD製造用イオン注入装置は、主に中小型高品位ディスプレイに使用されている液晶ディスプレイ(LCD)、有機ELディスプレイ(OLED)の製造には必要不可欠な重要装置です。近年、スマートフォンやタブレット端末などの高画質・高精細のディスプレイは、高画質・高精細・高機能を実現する低温ポリシリコン(LTPS)TFT・ディスプレイや有機ELディスプレイがその中心となっており、当社はそれらの製造に欠かせないイオン注入装置のパイオニア・リーディングサプライヤーとして貢献しています。
事業所の概要
| 最寄駅 | JR草津線「三雲駅」より、車で約15分 |
|---|---|
| 取扱製品 | イオン注入装置 |
| 所在地 | 滋賀県甲賀市水口町ひのきが丘29番地 （近江水口第二テクノパーク内） |
| 屋内の受動喫煙対策 | あり(禁煙) |
企業方針・企業理念
経営理念
私たちは企業価値向上のために、
お客様の理想を実現し、「信頼できるパートナー」として共に歩んでゆける関係を築きます。
社員の成長を支援し、「働きがいのある会社」として自己の可能性にチャレンジできる環境を継続的に提供します。
社会的責任を認識し、「なくてはならない会社」になるべくたゆまぬ努力を続けます。
企業情報
| 会社名 | 日新イオン機器株式会社 |
|---|---|
| 本社所在地 | 京都府京都市南区西九条東比永城町75 GRAND KYOTO 4F |
| 資本金 | 15億円 |
| 従業員数 | 単体303人 ※2023年10月1日現在 |
| 事業所 | 滋賀事業所(滋賀)、久世事業所(京都) |
| 設立 | 1999年4月1日 |
| 事業内容 | 半導体製造装置、フラットパネルディスプレイ製造装置の開発、設計、製造、販売、保守 |
| 代表者 | 代表取締役社長 長井 宣夫 |
ワークライフ情報
| 平均勤続年数 | 13.8年(2024年03月 時点) |
|---|---|
| 平均年齢 | 40.5歳(2024年10月 時点) |
| 月平均所定外 労働時間 |
20.1時間(2024年 時点) |
| 有給休暇の 平均取得日数 |
13.6日(2023年 時点) |
| 育児休業 取得者/出産者 |
女性 2人 / 2人 男性 5人 / 10人 |
| 役員および管理的地位にある者に占める女性の割合 | 役員 0.0% 管理職 2.3% |
採用情報
| 採用実績のある学校 | 早稲田大学、明治大学、中央大学、東京電機大学、東京理科大学、東京農工大学、東洋大学、日本大学、千葉大学、千葉工業大学、埼玉大学、静岡大学、豊橋技術科学大学、名古屋大学、中部大学、東海大学、愛知工業大学、三重大学、富山大学、金沢工業大学、金沢大学、北陸先端科学技術大学院大学、福井大学、福井工業大学、京都大学、京都工芸繊維大学、京都府立大学、同志社大学、立命館大学、京都産業大学、京都女子大学、龍谷大学、佛教大学、滋賀県立大学、滋賀大学、大阪大学、大阪府立大学、近畿大学、関西大学、大阪電気通信大学、大阪工業大学、摂南大学、大阪産業大学、追手門学院大学、大阪市立大学、神戸大学、甲南大学、兵庫県立大学、徳島大学、岡山大学、岡山理科大学、広島大学、福山大学、山口大学、山口東京理科大学、福岡大学、久留米工業大学、大分大学、宮崎大学、崇城大学、長崎大学、長崎総合科学大学、鹿児島大学、琉球大学、小山工業高等専門学校、舞鶴工業高等専門学校、津山工業高等専門学校、新居浜工業高等専門学校 |
|---|---|
| 過去3年間の新卒採用者数 |
2022年4月入社
6人採用 2023年4月入社 9人採用 2024年4月入社 7人採用 |
| 過去3年間の新卒離職者数 |
2022年4月入社
0人離職 2023年4月入社 1人離職 2024年4月入社 0人離職 |
| 過去3年間の新卒採用者数（男女別） |
2023年4月入社 男性
8人、女性
1人 2024年4月入社 男性 6人、女性 1人 2025年4月入社 男性 6人、女性 0人 |
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